PECVD炉承载板是用于在等离子体化学气相沉积（PECVD）炉中生长和处理薄膜的承载工具。PECVD炉是一种常用的设备，用于在半导体、光学和玻璃基底上沉积各种薄膜，如氧化物、氮化物、碳化物等。
产品优势：
高强度和稳定性：碳碳PECVD炉承载板通常由碳材料制成，具有很高的强度和稳定性，能够承受高温和化学反应的影响，保证在整个PECVD过程中的稳定性和可靠性。
良好的热传导性：碳材料的热传导性良好，这有助于在PECVD过程中保持材料的温度一致，从而提高沉积过程的均匀性和效率。
耐腐蚀性：由于碳材料具有很好的耐腐蚀性，因此碳碳PECVD炉承载板可以在各种化学环境下保持稳定，不会因为化学反应而损坏。
使用寿命长：碳碳PECVD炉承载板的使用寿命较长，可以减少更换频率，降低长期运营成本
性能参数：
参数
单位
体积密度
1.2-1.5
g/cm³
抗折强度
120-150
Mpa
110-130
杨氏模量
30-40
Gpa
灰分
500
ppm
导热系数(1000℃)
30-32
W/m.k
长/宽
可根据客户需求定制
长度最大
厚度
最高使用温度
2800
（无氧环境或惰性气体保护下）
